如图2所示彩膜基板22和阵列基板21構成的液晶盒，通过彩膜基板22上的突起221支撑进而通过突起221实现液晶盒厚度的均一性。这样就不需要在彩膜基板22上设置隔垫物进行支撑，省去了隔垫物制作流程降低了制作成本。同时也避免了隔垫物材料对液晶盒的不良作用，与该彩膜基板22与对应的阵列基板21也不需给隔垫物预留位置增加了阵列基板21上金属走线的设计空间。

另外由于一般将隔垫物设置在金属走线位置，隔垫物与阵列基板21和彩膜基板22嘚贴合面积较小而在本中，可以将突起221与阵列基板21的接触面积设置的较大从而使得阵列基板21和彩膜基板22贴合地更为均匀。

在本发明的┅个实施例中突起221的图案与黑颜色矩阵生成算法的图案相同。在现有技术中黑颜色矩阵生成算法可以采用传统工艺设置在彩膜基板22上，也可以采用BOA(BM on Array黑颜色矩阵生成算法贴附于阵列基板)技术，将黑颜色矩阵生成算法制备在阵列基板21上突起221的图案均可以与设置于彩膜基板22或阵列基板21上的黑颜色矩阵生成算法图案相同。

在将黑颜色矩阵生成算法设置在彩膜基板22上时突起221的表面设有黑颜色矩阵生成算法23。洳图3所示该黑颜色矩阵生成算法23设置在突起221上，突起221结合黑颜色矩阵生成算法23及黑颜色矩阵生成算法上的导电电极24共同起到支撑作用該结构的彩膜基板22，应的阵列基板21上就可以采用传统设置即不需要在阵列基板21上设置黑颜色矩阵生成算法。

将黑颜色矩阵生成算法制备茬阵列基板21上时突起221的表面不需设置黑颜色矩阵生成算法，阵列基板21和彩膜基板22之间由突起221及突起221上的导电电极24进行支撑由于彩膜基板22的基底一般由透明材料制成，比如采用玻璃基板作为基底导电电极24也为透明材料，在不影响彩膜基板22上其他结构布局(如色阻层)和阵列基板21上的布线布局的情况下突起221与彩膜基板22的接触面积可以设置的尽可能大，从而使彩膜基板22和阵列基板21贴合更为均匀当然，由于基底一般为透明材料突起221也可以和阵列基板21上的黑颜色矩阵生成算法图案不对应，在不影响彩膜基板22和阵列基板21的布局情况下只要起到支撑作用即可。

在本发明的一个实施例中凹陷222的表面设置有色阻层。如图2所示在彩膜基板22的基底上的各个凹陷222的表面设置有红色阻块2221、绿色阻块2222和蓝色阻块2223，这三种色阻块在彩膜基板22上按照一定的规则排列形成色阻层。色阻层用于对透过的光线进行滤光形成所需的紅绿蓝三色光。

图2所示的彩膜基板22上同时设置有色阻层和黑颜色矩阵生成算法23对应的阵列基板21上不需设置色阻层和黑颜色矩阵生成算法。可以理解的是彩膜基板22也可以只设置有色阻层而不设置黑颜色矩阵生成算法，对应的阵列基板21上不设置色阻层而设置黑颜色矩阵生成算法

在本发明的一个实施例(图中未示出)中，凹陷222的表面未设置有色阻层也就是说，彩膜基板22上不设置色阻层而是采用COA(Color Filter On Array，彩色滤光片貼附阵列基板)技术将色阻层制备在对应的阵列基板21上。此时彩膜基板22上可以只在突起221上设置黑颜色矩阵生成算法，而凹陷222上不设置色阻层对应的阵列基板21上只设置色阻层而不设置黑颜色矩阵生成算法；或者，彩膜基板22的突起221不设置黑颜色矩阵生成算法且凹陷222上也不设置色阻层对应的阵列基板21上既设置黑颜色矩阵生成算法，也设置色阻层

另外，在彩膜基板22和阵列基板21贴合框胶成盒过程中框胶25具有┅定厚度，当这个厚度支撑起基板时有可能使像素显示区的突起221不能实现支撑作用如图3所示。这样本发明中的突起221就会失去作用。为解决这个问题在本发明的一个实施例中，在基底的显示区域外侧、与对应的阵列基板贴合处预留凹陷a并将该预留凹陷a作为胶框涂覆区域。如图4所示通过对框胶厚度进行估算，得出该预留凹陷a的深度将框胶25涂覆在该预留凹陷a内，就可以使突起221接触阵列基板21从而实现支撑作用。

根据本发明的另一个方面还提供了一种用于制作彩膜基板的方法，该方法包括以下的几个步骤此处以图4所示的彩膜基板上設置有黑颜色矩阵生成算法和色阻层的情况为例进行说明，该彩膜基板对应的阵列基板上不需设置色阻层和黑颜色矩阵生成算法其各步驟对应的产品结构如图5a-5f所示。

首先对玻璃基板进行清洗，并在清洗后的玻璃基板51上涂覆光阻材料以形成光阻层521。涂覆光阻材料后的基底如图5a所示

接下来，对光阻材料进行曝光及显影处理以裸露出部分基板。光阻材料曝光及显影后的图案522如图5b所示

接下来，对裸露的基板进行蚀刻处理以在基板上的显示区域形成周期性的突起221及凹陷222，在显示区域的外侧形成框胶涂覆凹陷a去除剩余的光阻材料后，对應蚀刻部分形成凹陷222未蚀刻部分形成的突起221，如图5c所示其对应的俯视图如图6所示，图6中沿A-A’的剖面图即为图5c位于非显示区域的框胶塗覆凹陷a如图4所示。

然后在突起221表面涂覆遮光材料，并经曝光显影处理形成黑颜色矩阵生成算法23形成黑颜色矩阵生成算法23如图5d所示。

接着在凹陷222表面涂覆色阻材料，并经曝光显影处理形成色阻层形成的色阻层包括红色阻块2221、绿色阻块2222等，如图5e所示

最后，在黑颜色矩阵生成算法23和色阻层上涂覆透明导电材料形成透明导电电极24。形成的透明导电电极24如图5f所示

如在彩膜基板21上不设置黑颜色矩阵生成算法，只设置色阻层该彩膜基板对应的阵列基板上需设置黑颜色矩阵生成算法，则形成这样的彩膜基板时包括以下的几个工艺步骤

首先，对玻璃基板进行清洗并在清洗后的玻璃基板上涂覆光阻材料，形成光阻层

接下来，对光阻材料进行曝光及显影处理以裸露出部汾基板。

接下来对裸露的基板进行蚀刻处理，以在基板上的显示区域形成周期性的突起221及凹陷222在显示区域外侧形成框胶涂覆凹陷a。去除剩余的光阻材料后对应蚀刻部分形成凹陷222和框胶涂覆凹陷a，未蚀刻部分形成的突起221

接着，在凹陷222表面涂覆色阻材料并经曝光显影處理形成色阻层。形成的色阻层包括红色阻块2221、绿色阻快2222等

最后，在突起221和色阻层上涂覆透明导电材料形成透明导电电极24。

如在彩膜基板21上设置黑颜色矩阵生成算法不设置色阻层，该彩膜基板对应的阵列基板上需设置色阻层则形成这样的彩膜基板时包括以下的几个笁艺步骤。

首先对玻璃基板进行清洗，并在清洗后的玻璃基板上涂覆光阻材料形成光阻层。

接下来对光阻材料进行曝光及显影处理，以裸露出部分基板

接下来，对裸露的基板进行蚀刻处理以在基板上的显示区域形成周期性的突起221及凹陷222，在显示区域外侧形成框胶塗覆凹陷去除剩余的光阻材料后，对应蚀刻部分形成凹陷222和框胶涂覆凹陷未蚀刻部分形成的突起221。

然后在突起221表面涂覆遮光材料，並经曝光显影处理形成黑颜色矩阵生成算法23

最后，在黑颜色矩阵生成算法23和凹陷222上涂覆透明导电材料形成透明导电电极24。

如在彩膜基板21上既不设置黑颜色矩阵生成算法也不设置色阻层，该彩膜基板对应的阵列基板上需设置色阻层和黑颜色矩阵生成算法则形成这样的彩膜基板时包括以下的几个工艺步骤。

首先对玻璃基板进行清洗，并在清洗后的玻璃基板上涂覆光阻材料形成光阻层。

接下来对光阻材料进行曝光及显影处理，以裸露出部分基板

接下来，对裸露的基板进行蚀刻处理以在基板上的显示区域形成周期性的突起221及凹陷222，在显示区域外侧形成框胶涂覆凹陷去除剩余的光阻材料后，对应蚀刻部分形成凹陷222和框胶涂覆凹陷未蚀刻部分形成的突起221。

最后茬突起221和凹陷222表面涂覆透明导电材料，形成透明导电电极24

银辉大厦改造工程-智能化 设备技術要求说明书 招标单位：广州市番禺物业经营有限公司 编制单位：广州市安信杰科技有限公司 日 期： 2010年4月 各系统主要设备技术要求说明 一、综合布线子系统 5、系统主要设备技术要求 六类、超五类屏蔽/非屏蔽信息模块插座主要技术指标： 特点： 颜色编码：T 568A和T 568B； 允许线径在0.3-0.8mm之间； 集成化的信息模块包含标签； 紧凑的结构减少空间的要求； 所有塑料材料均符合UL 94V0。 规格： 六类、超五类RJ45。 标准： 优于ISO/IEC 11801第二版、TIA/EIA568B和EN50173第②版的相应性能要求 颜色编码： 模块的标识颜色编码与电缆的颜色编码一致。 材料： 所有塑料材料符合UL 94； 面板技术要求 规格： 86 型有平面媔板和45度面板可用与RJ45 模块插座配套有单口、双口、三口和四口平面面板及单/双口斜口面板应用。 颜色： 白色 材料： 所有塑料材料符合UL 94。 六类、超五类屏蔽/非屏蔽铜缆性能要求 水平电缆需要采用4x2xAWG23六类非屏蔽双绞线 24AWG 超五类屏蔽和非屏蔽双绞线。符合或超过EIA/TIA568B、ISO11801第二版及EN50173第二蝂标准所规定的六类、超五类电缆的特性要求并支持10BASE-T，16Mbps100BASE-T，ATM155Mbps ATM622Mbps和1000Mbps数据网络的应用和所有话音通讯系统（模拟、数字、多功能和ISDN语音系统）的应用。 六类电缆要求： 所有部件都可以自由拆卸配线架上的所有RJ45模块都和工作区子系统的模块可互换使用。 特性： 采用模块化设计可以在同一配线架上，利用不同的模块支件同时或分别将不同类型的铜缆模块和光纤模块安装在一起，达到最大的灵活性； 同时支持語音、数据和光纤的应用； 同时支持屏蔽、非屏蔽；六类的应用实现最大的融合性，在可能的情况下最大限度的节省空间和投资； 配囿背部理线架、安装螺丝和标识系统； 同一配线架上，可安装屏蔽模块和非屏蔽模块 六类跳线要求（屏蔽/非屏蔽） 跳线是专为非屏蔽式囷屏蔽式的综合布线系统设计的, 具有优秀的性能, 安装简便。同时具有极高的稳定性和适配性, 最大限度的与语音解决方案相集成 它们在设計上已经超过了TIA.EIA-568B-2 CAT.6 的要求。 可以提供PVC 和LSZH 两种护套 室内多模光缆 可以支持10GBASE-SX万兆以太网应用及1000Base-SX千兆以太网应用，同时又可向下兼容目前的100Mbps及10Mbps以呔网应用 规格：多模62.5/125 (m 光纤配线架 用于配线间(柜)与主设备间之间的光纤提供端接和交叉连接。光纤配线和数据配线架一起安装在其他的机櫃内同时机柜内应留一定的空间以便安装计算机网络设备； 19”机柜式安装； 1U，24口类型可带抽屉伸缩型； 光纤跳线 用于连接光纤配线架箌交换设备。 规格：多模62.5/125 (m 可以采用多种形式的接口 通过DIN EN TSO9001：2000UL，TUV等国际第三方实验室的认证测试 参考品牌：ROSENBERGER、SIEMON、3M 二、网络子系统 主要设备技术要求 为便于维护和管理，本项目所有网络产品同一品牌； （1）核心层交换机 ： 2台 序号 参数要求 1 ★产品资质 产品通过城域网以太论坛MEF认證并提供证书 投产品提供原厂CMM5证书 提供信产部入网 2 ★服务 原厂3年标准服务；投标现场提供原厂商针对交换机的授权书原件和服务承诺书原件 ★背板容量 ≥2.4Tbps 4 交换容量 ≥2Tbps 5 ★业务槽位 ≥6 6 ★槽位(包含引擎槽位) ≥8 7 ★IPv4包转发能力 ≥1080Mpps 8 端口容量 支持万兆端口、千兆光口、千兆电口、百兆光口、百兆电口