2016第三届物联网大会 智能后视镜产品方案对接会 中国LED智能照明高峰论坛 第三届·无线通信技术研讨会 第二届·中国IoT大会 ETFo智能安防技术论坛 移入鼠标可放大二维码 光刻技术领域的期盼与黯淡 来源：网络 作者：网络日 10:00 [导读] 摆脱光刻技术的沮丧看来遥遥无期。今天的193nm浸入式光刻技术仍然远远领先。业界一度认为193nm浸入式光刻会在32nm遭遇极限 　　数十年来，光刻一直是关键的芯片生产技术。今天它仍然很重要。不过，在最近的SPIE先进光刻技术大会中，一些迹象显示，光刻界及其客户需要的微缩──字面上的微缩──事实上几乎已经有点像心理安慰了。 　　焦虑、紧张和忧虑或许适合用来描述今天的光刻领域。但也许后头还有更严重的苦难，因为三个主要的下一代候选光刻技术(NGL)──超紫外光(EUV)、无光罩和纳米压印──统统迟到。第四个NGL选项：定向自组装(DSA)尽管来势汹汹，但它毕竟仍处于探索阶段。 　　摆脱光刻技术的沮丧看来遥遥无期。今天的193nm浸入式光刻技术仍然远远领先。业界一度认为193nm浸入式光刻会在32nm遭遇极限，但令人惊讶，看来该技术可扩展到1-x纳米节点。不过，要获得这些几何图形，芯片制造商必须采取更多、更昂贵的双重曝光步骤。 　　而一度领先的下一代光刻候选技术EUV仍然顽固地因为缺乏光源能、阻抗和关键光罩以及量测基础设施而延迟。结果是EUV的声望持续下滑，并失去了在1-x纳米节点大展身手的良机。 　　NAND闪存供应商之间存在着一种对EUV的迫切感，因为需要EUV来实现进一步微缩。NAND闪存厂商将193nm浸入式技术推进到了2-x纳米节点，但他们迟早需要在1-x纳米部份用到EUV技术。&我们的确曾对EUV技术充满寄望，&SanDisk公司技术总监Tuan Pham说。SanDisk和东芝(Toshiba)在日本有一座合资的NAND晶圆厂。 　　当被问及是否担心EUV的地位时，Globalfoundries资深院士Harry Levinson表示：&我是必须担心。&Levinson也是该公司的光刻策略经理。 　　由于EUV技术持续落后于半导体的微缩脚步，设备制造商ASML Holding NV据报导仍在思考将EUV波长从13nm减少到6.7nm，以追上摩尔定律。这也意味着该产业必须发展更新和更昂贵的EUV工具技术和基础架构，这让该领域的专家们不寒而栗。 　　身处EUV技术阵营的领先芯片制造商，现在也对其他NGL技术持开放态度，如无光罩、纳米压印，甚至是未来的IC自组装。&赌注非常大，&VLSI Research公司总裁Risto Puhakka说。&如果你做出错误的决定，就可能导致一场灾难。& 　　多年来，业界一直依靠传统的光学光刻来维持摩尔定律的发展。但恐怕早在上世纪70年代，光学光刻便将发展动能用光了。 　　图：业界预测的光刻技术发展路线图 　　当时，芯片制造商认为他们需要昂贵的X光光刻以微缩元件。当光学光刻技术在20世纪80年代打破了1微米壁垒时，该技术推动了对X光的需求，但最终也将X光钉入了棺木。 　　而后，在1990年代，关于光学光刻是末代技术的担忧再次浮现。当时有众多针对65nm芯片制造及以下制程的NGL技术，包括：157nm波长、电子束、电子束投影光刻(EPL)、超紫外光、离子束、解剖刀扫描电子束等。而在过去十年内，高指数(high-index)、纳米压印、无光罩和自组装也陆续问世。 　　随着时间的推移，157nm、高指数、EPL、解剖刀扫描电子束和其他技术逐渐销声匿迹。今天，余下的四个竞争者是EUV技术、纳米压印、无光罩和自组装。 　　在20世纪90年代，软X光技术的出现成为推动EUV的关键。包括英特尔(Intel)、超微(AMD)、摩托罗拉(Motorola)和国家实验室，开始在加州Livermore的Lawrence Livermore Labs开发EUV技术。 　　EUV：前景光明，道路曲折 　　EUV技术采用13.5nm波长，在真空室中加工。其光学元件基本上是一个可透过层间干扰方式反射光线的无缺陷透镜。 　　EUV技术一度被认为可用于65nm节点的生产，但该技术不断延迟。而总拥有成本(COO)仍是一大问题，因为与现行的光学'光簇'(photo-cluster)售价7,000万美元相比，今天EUV的'光簇'(photo-cluster)售价高达1.2亿美元，Globalfoundries的Levinson表示。 　　图：EUV光刻技术原理 　　ASML、佳能(Canon)和尼康(Nikon)是三大主要的EUV扫描器制造商。但最近，佳能跌出了领先光刻厂商排行榜。 　　剩下的两家厂商ASML和Nikon则有不同的策略。ASML公司正努力让EUV技术能应用在22nm节点，但Nikon认为在16或11nm节点前，该技术都尚未就绪。&EUV生态系统也会延迟，&Nikon的新世代技术开发部门总经理Yuichi Shibasaki说。 　　尼康一直在开发的EUV工具称为EUV1，这是一套生产系统，据报导该系统预计在2012年左出货。 　　ASML公司的策略相对明确。如同其193nm浸入式策略，该公司赶在Nikon之前向客户交付试产的EUV技术工具。ASML希望客户将藉由这套试产工具获得经验，从而逼使Nikon退出市场。 　　截至目前，ASML已出货两套alpha EUV工具，一套交付给Albany Nanotech，另一套则交货给IMEC。ASML最近也对三星电子推出了其首款独立的预生产EUV工具NXE:3100。ASML公司刚刚付运另外一套系统给IMEC。整体来说，ASML现有六张NXE:3100订单。 　　NXE:3100据闻拥有27nm解析度，数值孔径(NA)为0.25，场尺寸为26nm，光刻垒对(overlay)为4nm，flare则少于5%。这套工具售价将近1亿美元。 　　该工具的目标是在今年底达到每小时60片晶圆的吞吐量。但目前它的吞吐量每小时仅5片晶圆。EUV工具每小时约需200W的功率来处理100~150片晶圆。目前，ASML的EUV工具仅运作在10W左右。 　　分析师认为，ASML公司在推动EUV的过程中已经做了非常好的努力。现在，该公司的EUV客户正在等待由几家第三方合作伙伴开发的光源能。 　　尽管问题频传，但ASML对光源供应商付出了无比耐心。&我们有三家全力合作的厂商，&ASML执行副总裁暨首席产品和技术长Martin van den Brink说。 　　有两家厂商为ASML的NXE:3100工具提供光源能：Cymer公司和Ushio公司。Cymer已经开发了基于雷射激发电浆型(laser-produced plasma, LPP)技术的光源能。据ASML表示，Cymer的LPP光源能是在11W的持续功率上运作。 　　竞争对手Ushio则正在开发一种基于放电技术的光源能。ASML称Ushio的光源能已达到12W功率。另一家厂商Gigaphoton公司则展现了20W的功率。 　　&Cymer已经售出了四套EUV光源能给客户，而且正准备推出第五套，来自三星的初步反馈指出混合图案相当良好，但吞吐量很差，&Barclays Capital分析师CJ Muse在一份报告中提到。 光刻相关文章 光刻相关下载 技术交流、积极发言！ 发表评请遵守相关规定。 VR是今年消费电子的超级热门。手机产业的上下游已经出发寻找下一个计算平台。VR因为强计算需求、丰富的软硬件周边生态以及普适的应用场景，在近几年... 赛微微电子就是其中为优化电池管理不断向业界提供先进的半导体产品及相关服务，成就安全环保、高效低成本的电池电源管理解决方案和产品一家公司。... 创新实用技术专题 版权所有 & 深圳华强聚丰电子科技有限公司ASML-Brion睿初科技2016校园招聘 - ASML校园招聘 所属行业： 企业性质：私营/民营企业 企业规模：1000人以上 &公司简介 ASML-Brion: 睿初科技 Brion成立于2002年，总部坐落在美国加州硅谷。2007年与世界最大的半导体光刻设备制造商荷兰ASML 公司实现战略合并，成为ASML旗下重要的战略子公司。Brion是全球&计算光刻&技术的提出者和领导者,其核心是利用计算机集群软件计算技术，通过建模、仿真、数据分析和优化等手段解决半导体制造过程中的纳米级掩膜修复、芯片设计/制造缺陷检测与矫正等难题。通过与总部ASML的技术衔接与创新，为全球知名半导体制造商提供全面的光刻解决方案。 睿初科技是ASML-Brion 在中国的软件研发中心，成立于2004年，坐落在深圳市南山区高新科技园。公司93%以上员工具有硕士或博士学位，且均来自国内外知名高校。为继续提升公司在光刻领域的技术创新和领导地位，正广募英才，进一步壮大技术团队，为客户提供更先进的设计和解决方案。 ASML Holding N.V. 总部位于荷兰的ASML是全球光刻设备市场的领导者。创立于1984年，在全球16个国家设有70多个办事分支机构，全球员工超过14000人。在阿姆斯特丹及纳斯达克上市，股票代码&ASML&。全球十大集成电路生产商均为ASML的用户，2014年销售收入达59亿欧元。ASML每年人均研发经费名列欧洲第二，吸引了全球技术领域最优秀的人才。ASML所创造的技术和设备，成就了智能电子产品的普及，从而推动了全球通信、保健、环境、商业、娱乐及交通等领域的发展。 优秀的员工创造卓越 如果您拥有物理、光学、数学、计算机、软件、电子、自动化、信息科学等领域的硕士或博士学位，我们希望收到您的简历。您将获得如下待遇： & 具有竞争力的薪酬及奖金计划 & 优厚的福利待遇 & 员工配股和购股计划 & 国际差旅及外派机会 & 系统的个人成长与职业发展规划 & 国际水准的专业培训 & 多元开放的企业文化 & 轻松活跃的工作氛围 工作地点：深圳市南山区科技园 简历投递邮箱：jobs_ 微信：睿初科技 了解更多信息请登陆ASML官方网站： 招聘职位 Job Title 001: 软件开发工程师 职位描述： 作为软件开发团队的一员，您将负责设计、开发半导体光刻相关的仿真软件。你需要与产品研发团队的其他成员交流合作，同时遵循Brion软件开发的流程。工作的挑战在于开发分布式环境下高性能稳定运行的基于仿真的光刻检验与修正软件。 职位职责： & 使用C/C 或Java开发分布式计算光刻应用软件; & 基于行业项目需求提交产品总体设计方案，并评估新技术的可行性; 职位要求： & 重点大学本科以上学历; & 热爱软件开发，熟练使用C/C 或J & 熟练掌握常用的算法和数据结构; & 有良好的问题分析能力，并能创造性的解决问题; & 具备良好的团队合作精神和沟通能力; & 熟悉Linux开发环境、脚本语言者优先; & 熟悉分布式系统设计者优先; & 熟悉软件优化方法者优先 & 掌握数值计算方法者优先; Job Title 002: 算法工程师 职位描述： 作为算法研发团队的一员，您将负责设计、开发半导体光刻相关的仿真算法。你需要与产品研发团队的其他成员交流合作，同时遵循Brion软件开发的流程。工作的挑战在于基于现有的算法和软件技术发现问题并提出良好的解决方案。 职位职责： & 使用C/C 设计并维护计算光刻相关模型及其架构; & 进行光刻物理过程的研究、建模和仿真; & 优化代码和算法; 职位要求： & 数学、物理、计算机科学或其他相关专业，硕士及以上学历; & 拥有扎实的数学、光学或物理知识; & 能较好使用C/C 语言编程; & 掌握基本数值计算方法; & 有良好的问题分析能力，并能创造性的解决问题; & 具备良好的团队合作精神和沟通能力; & 熟悉半导体光刻及集成电路设计者优先; & 熟悉UNIX操作系统、脚本语言者优先; Job Title 003: 软件测试工程师 职位描述： 作为一名软件测试工程师，您将负责设计、制定和执行软件测试计划和测试用例，并设计开发自动化测试框架和工具实现软件测试自动化，以确保我们的产品达到极高的品质，并最大限度提高效率，减少手工重复工作。工作的挑战在于基于海量图形数据和大型分布式运算平台设计、开发全面高效的测试解决方案。 职位职责： & 保证软件的质量和可靠性，改善软件的易用性; & 设计、制订和执行软件测试计划和测试用例; & 设计、开发自动化测试框架和工具，实现软件测试自动化; 职位要求： & 计算机科学、电子工程、物理、数学或其他相关专业，硕士及以上学历; & 熟练使用至少一种计算机编程语言; & 有良好的问题分析和解决能力; & 注重细节，有耐心，能积极面对各种压力; & 熟练使用自动化测试工具，了解自动化框架者优先; & 熟悉UNIX操作系统、脚本语言者优先; & 熟悉芯片制造工艺特别是光刻工艺及集成电路设计者优先; & 了解操作系统、相关数据库、并行计算、客户/服务器架构、网络协议和文件系统管理者优先; Job Title 004: 产品工程师 职位描述： 作为产品工程师团队的一员，你将会成为客户与研发部门之间的技术桥梁，负责产品需求分析，为现场应用工程师及客户提供全面的技术支持及解决方案。该岗位对塑造和指导产品的增长和发展起关键性作用。 职位职责： & 基于客户需求进行产品功能测试并提供评估报告; & 执行产品新功能可行性分析和模型测试; & 为全球客户提供售前及售后技术支持，提供解决方案; & 为特殊的应用程序及其使用编写技术文档; 职位要求： & 具有扎实的数学、物理、光学，微电子或电子工程背景，硕士及以上学历; & 拥有软件工程和计算机编程方面的基础知识; & 良好的团队合作精神和人际交往技能; & 良好的沟通和表达能力; & 流利的英语表达能力; & 熟悉UNIX、C/C 、脚本语言和数据库者优先; & 熟悉计算机系统和网络者优先; & 拥有扎实的数学、光学或物理知识及培训经验者优先; & 熟悉芯片制造工艺特别是光刻工艺及IC设计者优先; & 有FAB厂先进工艺控制(APC)经验者优先; 优秀的员工创造卓越 如果您拥有物理、光学、数学、计算机、软件、电子、自动化、信息科学等领域的硕士或博士学位，我们希望收到您的简历。您将获得如下待遇： & 具有竞争力的薪酬及奖金计划 & 优厚的福利待遇 & 员工配股和购股计划 & 国际差旅及外派机会 & 系统的个人成长与职业发展规划 & 国际水准的专业培训 & 多元开放的企业文化 & 轻松活跃的工作氛围 简历投递邮箱： jobs_ 联系方式 联系人：人力资源 联系人邮箱：jobs_ 单位电话：0 主页： http://www.career./ejob// 电子邮箱：jobs_ 地址：深圳市南山区高新南五道九号金证科技大楼五楼西侧 邮编：518057 ASML其他职位： 性质：私营/民营企业 规模：1000人以上 相关公司推荐 扫码关注官方微信 及时获取"最新"校招信息【ASML工资|ASML待遇怎么样】-看准网 电子/半导体/集成电路 公司地址 暂无 公司介绍 工资来自 29 员工匿名分享，最后更新于本月内。 ￥17400比同行 ￥10498比同行 ￥13820比同行 ￥— —比同行— — 请或，才能查看详细内容 ￥— —比同行— — 请或，才能查看详细内容 ￥— —比同行— — 请或，才能查看详细内容 ￥— —比同行— — 请或，才能查看详细内容 ￥— —比同行— — 请或，才能查看详细内容 ￥— —比同行— — 请或，才能查看详细内容 ￥— —比同行— — 请或，才能查看详细内容 说明： 所有工资数据来自用户匿名分享。工资水平受地域、工作年限等多种因素影响，仅供参考。 平均￥13805 工资分布图（k） 平均工资比 平均工资比 看了该公司的还看了 关注看准官方微信 下载看准官方APP 订阅公司信息 订阅成功！ 向老鸟咨询 把你关于ASML的问题大胆的提出来，这里的34位老鸟很乐意为你解答～ 写下问题吧~ 提交成功！请静静等待老鸟们回答~ 扫描二维码 分享到朋友圈，邀请微信好友帮忙解答 小贴士：问题描述的越清楚，越能吸引老鸟来回答哟~光刻设备商争相发展EUV技术 ASML Canon Nikon公布发展路图 光刻设备商争相发展EUV技术 ASML Canon Nikon公布发展路图 发布: | 作者:—— | 来源: SEMI中国 | 查看:223次 | 用户关注： 据EE Times网站报道，近期举行的SPIE先进光刻技术会议上，ASML、Canon和Nikon相继介绍了他们各自的极紫外（EUV）光刻技术发展路途。 SPIE会上，众尖端芯片制造商就以下观点达成了一致：到22纳米及以下节点，必将使用EUV技术。目前为止，对于22纳米节点，除了EUV技术之外别无选择。 目前，众多设备厂商均争相发展EUV技术，力求取得领先地位，占得先机。 相关链接（英文）：htt 据EE Times网站报道，近期举行的SPIE先进光刻技术会议上，ASML、Canon和Nikon相继介绍了他们各自的极紫外（EUV）光刻技术发展路途。 SPIE会上，众尖端芯片制造商就以下观点达成了一致：到22纳米及以下节点，必将使用EUV技术。目前为止，对于22纳米节点，除了EUV技术之外别无选择。 目前，众多设备厂商均争相发展EUV技术，力求取得领先地位，占得先机。 相关链接（英文）：& 本页面信息由华强电子网用户提供，如果涉嫌侵权，请与我们客服联系，我们核实后将及时处理。 IK Multimedia 发售iRig Nano Amp